当社が日本国内にて販売する蒸発材料・スパッタリングターゲット（アノード）は半導体ウエハー用途（φ200、φ300）のみです
半導体ウエハー以外で使用される蒸発材料・スパッタリングターゲット（アノード）は販売できませんのでご了承願います
蒸発材料について
真空蒸発とは
真空環境下で材料を加熱し、蒸発させて基板に薄膜を形成する技術で、電子デバイス、光学コーティング、装飾目的などで広く使用されます
蒸発用メッキ材とは
真空蒸発プロセスで使用される金属や化合物のことで、蒸発しやすく、かつ基板に均一な薄膜を形成できるように設計されています
主な蒸発用メッキ材と選定ポイント
蒸発材料のご紹介
ターゲット（アノード）について
スパッタリングターゲット（アノード）とは
スパッタリング法において使用される材料で、プラズマ中のイオンによってその表面から原子を飛ばし、基板上に薄膜を形成するためのものです
スパッタリングターゲット 製造プロセス
スパッタリングターゲット（アノード）のご紹介
パッケージングターゲット（アノード）のご紹介
その他ターゲット（アノード）のご紹介
